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NEXTLAB – LAB

Alquilbenceno lineal (LAB) es principalmente utilizado como materia prima para la producción de ácido sulfónico (LABSA) a través de la reacción de sulfonación, el cual es neutralizado para la producción de sulfonato sódico de alquilbenceno lineal (LAS), el principal tensioactivo aniónico empleado en la industria.

Producto	Nombre comercial	% 2 Fenilo	Tipo LAB	Planta
LAB	NextLAB-R 550-L	bajo	C12	España
	NextLAB-R 550-H	alto	C12	España
	PETRELAB® 550	bajo	C12	España
	DetenLAB® 240	bajo	C12	Brasil
	PETRELAB® 500-Q	alto	C11	Canadá
	PETRELAB® 550-Q	alto	C12	Canadá

NEXTLAB-R550-L

NEXTLAB-R550-L

NextLAB-R550-L es un alquilbenceno lineal (LAB) que incorpora materias primas renovables certificadas y que mantiene las mismas especificaciones técnicas que su homólogo fósil PETRELAB 550.

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NEXTLAB-R550-H

NEXTLAB-R550-H

NextLAB-R550-H es un alquilbenceno lineal (LAB) que incorpora materias primas renovables certificadas y que mantiene las mismas especificaciones técnicas que su homólogo fósil PETRELAB 550-Q.

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PETRELAB® 550

PETRELAB® 550 es un alquilbenceno lineal (LAB), resultado de la alquilacion catalítica de benzeno con olefinas. Es una mezcla de homólogos C10-C13 (11,6 promedio) con bajo contenido en isómeros 2-fenilo (15-20%). Se emplea tecnología HF para su producción.

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PETRELAB® 500-Q

PETRELAB® 500-Q

PETRELAB® 500-Q es un alquilbenceno lineal (LAB) resultado de la alquilacion catalítica de benzeno con olefinas. Es una mezcla de homólogos C10-C13 (11.2 promedio) con alto contenido en isómeros 2-fenilo (27-31%). Se emplea la tecnología Detal para su producción.

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PETRELAB® 550-Q

PETRELAB® 550-Q

PETRELAB® 550-Q es un alquilbenceno lineal (LAB) resultado de la alquilación catalítica de benceno con olefinas. Es una mezcla de homólogos C10-C13 (11.6 promedio) con alto contenido en isómeros 2-fenilo (25-30%). Se emplea la tecnología Detal para su producción.

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DetenLAB® 240

DetenLAB® 240 es un alquilbenceno lineal (LAB) resultado de la alquilacion catalítica de benzeno con olefinas. Es una mezcla de homólogos C10-C13 (11.6 promedio) con bajo contenido en isómeros 2-fenilo (20% máx.). Se emplea tecnología HF para su producción.

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